Product FAQ

产品常见问答

常见问题

Q1. 薄膜计设

选择最合适的光学薄膜设计是提高成膜的效率和生产能力的必不可少的要素。

Q2. 成膜工艺

合适的薄膜沉积工艺是提高膜层质量和生产能力所不可缺少的条件。

Q3. 真空镀膜

真空镀膜是指在真空中加热镀膜材料使其蒸发(气化)、附着在基板表面形成薄膜的方法。由于真空排除了不纯物、能够形成致密的薄膜。

蒸发方式成膜是一种可靠性和适应性很强的方法,该方法可以使多样的金属半导体和电解质成膜材料利用热蒸发或者电子束蒸发源,得到高的镀膜速率和优质的膜厚分布。

Q4. 离子辅助镀膜

离子辅助镀膜(IAD:Ion Assisted Deposition)是在蒸发过程中采用离子枪以一定动能的离子流轰击基板、其目的是改善膜层结构、提高致密性和附着力、从而提高成膜质量。 这种成膜方法制成的滤光片的吸收损失非常小而且膜应力也比使用其他的等离子方法小。利用离子辅助镀膜能获得无可比拟的生产性和薄膜特性。

Q5. 低温溅射

以往的成膜技术通常是热镀、即基板在镀膜前需加热处理、因此基板须使用耐热性很好的玻璃。这对于在耐热性差的树脂或 柔软材料上成膜非常不利。

Q6. 大电流离子源

离子枪是离子辅助、离子束溅射等成膜设备不可缺少的重要部件。有效提高离子辅助成膜的速度。

Q7. 高精度光学膜厚计

光学膜厚计是在真空镀膜设备制造光学薄膜时、监测基板上形成薄膜光学厚度的测定仪器。该设备是制造精密薄膜、实现自动化成膜控制不可缺少的测定设备。针对薄膜的光学特性(波长带宽、膜层数、膜规格等)。

Q8. 高性能控软件

高效制造高性能薄膜需要稳定性和可靠性高的控制软件。

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